芯片光刻過(guò)程中需要檢測(cè)哪些氣體

2023.12.29　瀏覽量：236 次

光刻就是把芯片制作所需要的線(xiàn)路和功能區(qū)做出來(lái)，是一種精密的微細(xì)加工技術(shù)，芯片光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過(guò)程中最為復(fù)雜也是最為關(guān)鍵的環(huán)節(jié)，耗時(shí)長(zhǎng)，成本高。光刻工藝主要有涂膠、煎烘、曝光、顯影＆堅(jiān)膜、刻蝕以及去膠六大步驟，這幾大步驟往往會(huì)用到危險(xiǎn)有害氣體，為了安全起見(jiàn)，就需要使用芯片光刻用氣體檢測(cè)儀，下面來(lái)看看芯片光刻過(guò)程中需要檢測(cè)哪些氣體？

過(guò)氧化氫是一種很強(qiáng)的氧化劑，若直接接觸皮膚，會(huì)引起皮膚和眼睛發(fā)炎以及灼傷等。主要用于清洗表面，去除表面的雜質(zhì)和污染物，保證半導(dǎo)體器件的質(zhì)量和性能。二甲苯是光刻負(fù)膠使用的溶劑，會(huì)揮發(fā)到環(huán)境中，當(dāng)環(huán)境中的二甲苯達(dá)到1%-7%時(shí)就會(huì)有燃燒爆炸的可能，暴露在二甲苯中會(huì)引起眼睛、鼻子、喉嚨發(fā)炎等。六甲基二硅氮烷最常用來(lái)增加光刻膠在品圓表面附著力的底漆層，易燃且燃點(diǎn)低，6.7℃就會(huì)燃燒，環(huán)境中大的濃度達(dá)到0.8%-16%時(shí)就會(huì)有燃燒爆炸的可能。氫氧化四甲基氨是光刻的顯影劑，有毒且具有腐蝕性，吸入高濃度的該氣體會(huì)死亡。氯氣和氟氣都是光刻工藝的光源，都具有毒性，濃度過(guò)高會(huì)致死，長(zhǎng)期接觸還會(huì)有頭痛、腹瀉等癥狀。還有氬氣、氖氣、氙氣、氪氣等稀有氣體，雖然無(wú)毒，但是濃度過(guò)大會(huì)有窒息的風(fēng)險(xiǎn)，在高溫高壓的情況下還會(huì)發(fā)生爆炸。

對(duì)于光刻工藝使用的氣體檢測(cè)儀，推薦西安贏潤(rùn)環(huán)保生產(chǎn)的多參數(shù)氣體檢測(cè)儀ERUN-PG71S4，此款儀器為泵吸式設(shè)計(jì)，響應(yīng)速度很快，能夠在檢測(cè)到濃度異常的第一時(shí)間發(fā)出報(bào)警信息。也能同時(shí)檢測(cè)多種氣體，互不干擾。多種報(bào)警模式可設(shè)置，滿(mǎn)足用戶(hù)不同需求。數(shù)據(jù)存儲(chǔ)容量大，防護(hù)等級(jí)高，非常適合半導(dǎo)體行業(yè)使用。

上述即為芯片光刻過(guò)程中需要檢測(cè)哪些氣體的相關(guān)介紹，芯片光刻過(guò)程中會(huì)涉及到很多危險(xiǎn)氣體，這些氣體對(duì)人體和環(huán)境都有不同程度的危害，為保證安全，芯片光刻用氣體檢測(cè)儀的使用不可缺少，作為氣體檢測(cè)儀的生產(chǎn)廠(chǎng)家，贏潤(rùn)環(huán)保一直關(guān)注半導(dǎo)體行業(yè)的安全發(fā)展，不斷進(jìn)行產(chǎn)品的迭代升級(jí)，以解決用戶(hù)需求。